- Описание
- Характеристики
- Отзывы0
Идеально подходит для жирной / комбинированной кожи, склонной к АКНЕ и / или раздраженной и вос-паленной кожи Маска-пленка PEEL OFF для суперэффективного очищения, устранения черных точек и минимизации пор на основе бамбукового угля, минералов, растительных экстрактов, эфиров и спиртов жожоба.
Формирующаяся после высыхания маски пленка обеспечивает эффект пилинга, устраняет эффект «закупорки» пор, удаляет комедоны и черные точки. Вытягивает токсины и загрязнения, которые могут стать причиной появления прыщей и угрей. Помогает бороться с воспалением и устраняет поствоспалительные дефекты. Уменьшает жирность кожи и минимизирует размер пор
Бамбуковый уголь удаляет мертвые клетки кожи, чем также стиму-лирует рост клеток, делая кожу более мягкой, нежной и гладкой.
Гекторит и Каолин способствуют до-полнительной абсорбции излишков кожного сала.
Инновационный компонент Alp Sebum резко снижает выработку провоспалительных клеток и выработку кожного сала, способствуя сужению пор и тем са-мым улучшая состояние кожи.
Экстракт коры Ивы стимулирует обновление эпидермиса, очищает кожу от омертвевших клеток и препятствует закупорке пор.
Спирт и эфир Жожоба способствуют увлажнению и смягчению кожи (аналог кожного сала).
Токоферол способствует заживлению кожи, оказывает антиок-сидантное и противовоспалительное действие.
Экстракты грейпфрута, лимона и гамамелиса обеспечи-вают бактерицидное, вяжущее и тонизирующее действие, отбеливают и сужают поры, способствуют уменьшению отечности.
Water/Aqua, Polyvinyl Alcohol, Propanediol, Glycereth-26, Kaolin, Hectorite, Hydroxyethylcellulose, Isopropyl Jojobate, Jojoba Alcohol, Glycerin, Jojoba Esters, Polysorbate 20, Acrylates Copolymer, Acrylates/C10-30 Alkyl Acrylate Crosspolymer, Carbomer, Tocopherol, Xanthan Gum, Citrus grandis (Grapefruit) Seed Extract, Hamamelis virginiana (Witch Hazel) Extract, Citrus limon (Lemon) Peel Extract, Charcoal, Salix nigra (Willow) Bark Extract, Epilobium fleischeri Extract, Citric Acid, Potassium Sorbate, Sodium Hydroxide, Phenoxyethanol, Caprylyl Glycol, Hexylene Glycol, Iron Oxides (CI 77499)
Следуйте протоколу процедуры. Очистите лицо при помощи необходимого очищающего средства, про-сушите кожу. Нанесите тонкий слой маски. Время экспозиции 15 мин. После высыхания, аккуратно приподнимите край маски и медленно ее снимайте, как пленку. Остатки удалите водой.
